| 标题 |
 Nanoscale Hydrophobic Recovery: A Chemical Force Microscopy Study of UV/Ozone-Treated Cross-Linked Poly(dimethylsiloxane) 纳米级疏水恢复：紫外/臭氧处理交联聚（二甲基硅氧烷）的化学力显微镜研究
相关领域
纳米尺度
材料科学
X射线光电子能谱
接触角
模数
显微镜
缩进
分析化学（期刊）
复合材料
弹性模量
化学工程
同质性（统计学）
化学力显微镜
纳米压痕
原子力显微镜
化学
开尔文探针力显微镜
纳米技术
色谱法
光学
非接触原子力显微镜
工程类
物理
统计
数学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Langmuir 作者：Henrik Hillborg; Nikodem Tomczak; Attila Oláh; Holger Schönherr; G. Julius Vancsó 出版日期：2003-12-30 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
Copyright
cdercder
Nole
大力的冬萱
潇洒的惋清
Criminology34
liuzhuohao
key
挣积分换文献的大飞
愉快的真
美好斓
风清扬
Oracle
行走的荷尔蒙
arniu2008
明亮尔蓝
嘉心糖
小荷才露尖尖角
Nexus
皖公网安备34019202002308
