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Excimer-laser-induced degradation of fused silica and calcium fluoride for 193-nm lithographic applications
193纳米光刻应用中熔融二氧化硅和氟化钙的准分子激光降解
相关领域
材料科学 准分子激光器 激光器 光学 平版印刷术 吸收（声学） 准分子 氟化物 衰减系数 光电子学 复合材料 化学 物理 无机化学
网址
https://doi.org/10.1364/ol.24.000058
DOI
10.1364/ol.24.000058 doi
其它 期刊：Optics Letters
作者：Vladimir Liberman; M. Rothschild; Jan Sedláček; Ray S. Uttaro; Andrew Grenville; et al
出版日期：1999-01-01
求助人
burec 在 2025-12-15 18:05:03 发布自北京，悬赏 10 积分
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