Two-step resist-development process of hydrogen silsesquioxane for high-density electron-beam nanopatterning

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标题	Two-step resist-development process of hydrogen silsesquioxane for high-density electron-beam nanopatterning
网址	https://doi.org/10.1116/1.3049482
DOI	10.1116/1.3049482 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者：Hyo-Sung Lee; Jung-Sub Wi; Sung-Wook Nam; Hyun-Mi Kim; Ki-Bum Kim 出版日期：2009
求助人	Jack 在 2026-01-30 14:37:02 发布自天津，悬赏 10 积分
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