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  Phase evolution and nucleation control of continuous and ultrathin ruthenium films via oxidant-controlled atomic layer deposition 相关领域
原子层沉积
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钌
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期刊：Applied Surface Science 作者：Minseok Kim; Taehwan Lee; Seungwan Ye; Sung‐Chul Kim; Sung Ok Won; et al 出版日期：2026-08-04 |
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