| 标题 |
Design of a high-numerical-aperture extreme ultraviolet lithography illumination system |
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| DOI |
10.1364/ao.57.005673
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期刊:Applied Optics 作者:Jia-Hua Jiang; Yanqiu Li; Shi-Huan Shen; S. Mao 出版日期:2018-07-03 |
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(2025-6-4)