Reactive Ion Etching of Molybdenum In CF4/O2 Plasma

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标题	Reactive Ion Etching of Molybdenum In CF4/O2 Plasma
网址	http://dx.doi.org/10.1557/proc-68-65
DOI	10.1557/proc-68-65 doi
其它	期刊：MRS Proceedings 作者：Seong-Ju Park; C. P. Sun; J. T. Yeh; J. K. Cataldo; N. Metropoulos 出版日期：1986-01-01
求助人	研友_LXOBO8 在 2026-10-03 16:35:07 发布自河北，悬赏 10 积分
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