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MBMW-100 flex, the 1st electron multi-beam mask writer for mature and advanced mask nodes |
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10.1117/12.2688257
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| 其它 |
期刊:Photomask Technology 2023 作者:Mathias Tomandl; Christof Klein; Hans Loeschner; Elmar Platzgummer 出版日期:2023-11-22 |
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(2025-6-4)