The evolution of growth stresses in chemical vapor deposited tungsten films studied by in situ wafer curvature measurements

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标题	The evolution of growth stresses in chemical vapor deposited tungsten films studied by in situ wafer curvature measurements
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/74/6/3899/18660638/...
DOI	10.1063/1.354485 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：G. J. Leusink; T. G. M. Oosterlaken; G. C. A. M. Janssen; S. Radelaar 出版日期：2002-07-26
求助人	friendlyfwf 在 2026-11-03 00:29:34 发布自广东，悬赏 10 积分
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