Vertically Standing Graphene: Heater‐Free and Substrate‐Independent Growth of Vertically Standing Graphene Using A High‐Flux Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition

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标题	Vertically Standing Graphene: Heater‐Free and Substrate‐Independent Growth of Vertically Standing Graphene Using A High‐Flux Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition
网址	求助人暂未提供
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
其它	期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Zhiheng Wu; Yongshang Zhang; Yonglong Shen; Wei Zhang; Guosheng Shao 出版日期：2020
求助人	坚定如南在 2026-05-22 15:23:09 发布自北京，悬赏 10 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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