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Atomic layer etching of Sn by surface modification with H and Cl radicals |
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期刊:Nanotechnology 作者:Doo San Kim; Yun Jong Jang; Ye Eun Kim; Hong Seong Gil; Byeong Hwa Jeong; Geun Young Yeom 出版日期:2022 |
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(2025-6-4)