| 标题 |
 Photolysis and UV/H 2 O 2 of diclofenac, sulfamethoxazole, carbamazepine, and trimethoprim: Identification of their major degradation products by ESI–LC–MS and assessment of the toxicity of reaction mixtures 相关领域
化学
过氧化氢
毒性
色谱法
检出限
甲氧苄啶
核化学
降级（电信）
光解
磺胺甲恶唑
卡马西平
紫外线
光化学
有机化学
抗生素
生物
生物化学
物理
神经科学
量子力学
计算机科学
癫痫
电信
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Chemical Engineering Research & Design 作者：Sultan K. Alharbi; Jinguo Kang; Long D. Nghiem; Jason P. van de Merwe; Frédéric D.L. Leusch; et al 出版日期：2017-07-20 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Copyright
郭竞阳
DKJ
OK
Oracle
GingerF
山悦木兮
带头大哥
潇洒的惋清
xjcy
叶上初阳
龙的传人灬龙
无极微光
Criminology34
Ughitsmu
dew
leileiz123
哈哈
AireenBeryl531
saqi
皖公网安备34019202002308
