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标题
[高分] Silicon epitaxy at low temperature, using UV cleaning in a reduced pressure CVD system
相关领域
托尔 硅 材料科学 外延 基质（水族馆） 光电子学 辐照 辐射 热的 化学气相沉积 氢 大气压力 光学 复合材料 化学 气象学 物理 地质学 有机化学 核物理学 海洋学 热力学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1049/el:19880276
DOI
10.1049/el:19880276 doi
其它 期刊：Electronics Letters
作者：J.L. Regolini; D. Bensahel; Y. I. Nissim; J. Mercier; E. Scheid; et al
出版日期：1988-03-31
求助人
SQL 在 2025-10-27 22:47:53 发布自广西，悬赏 100 积分
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