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Unintended Soft Breakdown Mechanism Limiting Ultrathin Ferroelectric HZO Films Scaling 限制超薄铁电HZO薄膜结垢的意外软击穿机制
相关领域
限制
铁电性
缩放比例
材料科学
机制(生物学)
意外后果
光电子学
纳米技术
物理
工程类
政治学
电介质
几何学
数学
机械工程
量子力学
法学
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期刊:ACS applied electronic materials 作者:Wonwoo Kho; Hyunjoo Hwang; Hyo‐Bae Kim; Gunho Kim; Ji‐Hoon Ahn; et al 出版日期:2025-04-18 |
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