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 Constant period line gratings as a metric for patterning fidelity in electron beam lithography 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Cecilia Fasano; Fernando Cruz Aguirre; Casey T. DeRoo; Keri Hoadley; Jared Termini 出版日期：2024-10-08 |
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