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 The relationship between annealing and nitrogen flow ratios during magnetron sputtering of AlN films 磁控溅射AlN薄膜过程中退火与氮气流量的关系
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期刊：Applied Physics A 作者：Yaqi Han; Hui Zhang; Xinjian Xie; Zefeng Liu; Kangqi Geng; et al 出版日期：2023-01-16 |
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