Etch Characteristics of TiN Thin Film with Addition Cl2 Gas in BCl3/Ar Plasma

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标题	Etch Characteristics of TiN Thin Film with Addition Cl2 Gas in BCl3/Ar Plasma
网址	http://dx.doi.org/10.4313/JKEM.2008.21.12.1051
DOI	10.4313/JKEM.2008.21.12.1051 doi
求助人	昕昕233 在 2026-04-15 23:23:15 发布自上海，悬赏 10 积分
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