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Wide process temperature of atomic layer deposition for In2O3 thin-film transistors using novel indium precursor (N,N′-di-tert butylacetimidamido)dimethyllindium |
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期刊:Nanotechnology 作者:Ju-Hun Lee; Seung-Youl Kang; Changbong Yeon; Jong-Heon Yang; Jaesun Jung; et al 出版日期:2024 |
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(2025-6-4)