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Engineering the Future of Transistors: A Detailed Review on the Innovations and Challenges in Uniformly Doped Tunnel Field-Effect Transistors
设计晶体管的未来：均匀掺杂隧道场效应晶体管的创新和挑战的详细综述
网址
https://doi.org/10.1134/S1063782625600524
DOI
10.1134/S1063782625600524 doi
其它 期刊：Semiconductors
作者：T. Ranjith Kumar; G. Lakshmi Priya
出版日期：2025
求助人
伶俐的万天 在 2025-09-10 09:52:12 发布自安徽，悬赏 10 积分
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