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 Silicon etching yields in F2, Cl2, Br2, and HBr high density plasmas F2、Cl2、Br2和HBr高密度等离子体中硅的刻蚀产率
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Steven A. Vitale; Heeyeop Chae; Herbert H. Sawin 出版日期：2001-09-01 |
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