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标题
In Situ Electrochemical Investigation of Tungsten Electrochemical Behavior during Chemical Mechanical Polishing
化学机械抛光过程中化学化学行为的现场电化学研究
相关领域
钨 化学机械平面化 塔菲尔方程 材料科学 钝化 开路电压 电化学 介电谱 冶金 阳极 抛光 化学 无机化学 分析化学（期刊） 电极 复合材料 图层（电子） 电压 物理化学 物理 量子力学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1149/1.1838785
DOI
10.1149/1.1838785 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：David J. Stein; Dale L. Hetherington; T.R. Guilinger; J.L. Cecchi
出版日期：1998-09-01
求助人
Jason-1024 在 2025-07-14 23:00:58 发布自北京，悬赏 10 积分
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