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 Electrical Reliability Issues of Integrating Thin Ta and TaN Barriers with Cu and Low‐K Dielectric 将薄Ta和TaN势垒与Cu和低K电介质集成的电可靠性问题
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Zhen‐Cheng Wu; Chau‐Chiung Wang; Ren‐Guay Wu; Yulin Liu; Peng‐Sen Chen; et al 出版日期：1999-11-01 |
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