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 Silicon interface properties of AlOx and SiNx passivation nanolayers under electric field stress 电场应力下AlOx和SiNx钝化纳米层的硅界面特性
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期刊： 作者：Xinya Niu; Shona McNab; Ruy S. Bonilla 出版日期：2025-05-02 |
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