Study on the etching characteristics of amorphous carbon layer in oxygen plasma with carbonyl sulfide

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标题	Study on the etching characteristics of amorphous carbon layer in oxygen plasma with carbonyl sulfide
网址	https://doi.org/10.1116/1.4780122
DOI	10.1116/1.4780122 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jong Kyu Kim; Sung Il Cho; Nam Gun Kim; Myung S. Jhon; Kyung Suk Min; et al 出版日期：2013-01-28
求助人	壮观的夏蓉在 2026-07-14 21:48:39 发布自北京，悬赏 10 积分
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