Ultrathin ferroic HfO2–ZrO2 superlattice gate stack for advanced transistors

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标题	Ultrathin ferroic HfO2–ZrO2 superlattice gate stack for advanced transistors
网址	https://doi.org/10.1038/s41586-022-04425-6
DOI	10.1038/s41586-022-04425-6 doi
其它	期刊：Nature 作者：Suraj Cheema; Nirmaan Shanker; Li‐Chen Wang; Cheng‐Hsiang Hsu; Shang‐Lin Hsu; et al 出版日期：2022-04-06
求助人	LBJ 在 2026-07-16 10:43:13 发布自美国，悬赏 10 积分
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