ATOMIC LAYER DEPOSITION OF SiO2 USING CATALYZED AND UNCATALYZED SELF-LIMITING SURFACE REACTIONS

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标题	ATOMIC LAYER DEPOSITION OF SiO2 USING CATALYZED AND UNCATALYZED SELF-LIMITING SURFACE REACTIONS
网址	https://www.worldscientific.com/doi/pdf/10.1142/S0218625X990...
DOI	10.1142/s0218625x99000433 doi
其它	期刊：Surface Review and Letters 作者：J. Klaus; O. Sneh; A. Ott; S. George 出版日期：1999-06-01
求助人	LU 在 2026-09-14 17:25:48 发布自陕西，悬赏 30 积分
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