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Simulation-Driven Optimization of STI Etching: A Systematic Approach to Defect Reduction
相关领域
还原（数学） 蚀刻（微加工） 计算机科学 材料科学 纳米技术 数学 图层（电子） 几何学
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11017772/11017773/110179...
DOI
10.1109/cstic64481.2025.11017999 doi
其它 期刊：China Semiconductor Technology International Conference
作者：Jianming Guo; Xiaoming Shi; Hao Bai; Dong Ni; Dawei Gao
出版日期：2025-03-24
求助人
烯灯 在 2026-08-26 09:01:07 发布自湖南，悬赏 10 积分
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