Synthetic mask layout generation for machine learning-based OPC modeling in NA 0.33 EUV lithography

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标题	Synthetic mask layout generation for machine learning-based OPC modeling in NA 0.33 EUV lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.3118620
DOI	10.1117/12.3118620 doi
其它	期刊：Photomask Japan 2026: XXXII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 作者：Renyang Meng; Dongbo Xu; Po-Cheng Chen; Nicolas Besset; Sophie Rissberger; et al 出版日期：2026-09-24
求助人	aa3294 在 2026-10-07 14:25:52 发布自北京，悬赏 20 积分
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