Chemistry-dependent and source power-mediated spatial redistribution of ACL necking in low-pressure fluorocarbon plasma etching of high-aspect-ratio SiO 2

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标题	Chemistry-dependent and source power-mediated spatial redistribution of ACL necking in low-pressure fluorocarbon plasma etching of high-aspect-ratio SiO 2
网址	http://dx.doi.org/10.1088/1361-6463/aea16d
DOI	10.1088/1361-6463/aea16d doi
其它	期刊：Journal of Physics D: Applied Physics 作者：Jiachen Wei; Chen Yang; Kwang-Ho Kwon 出版日期：2026-09-11
求助人	StevenZhao 在 2026-09-29 17:28:30 发布自湖北，悬赏 10 积分
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