Effect of cluster/particle deposition on atmospheric pressure chemical vapor deposition of SiO2 from four gaseous organic Si-containing precursors and ozone

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标题	Effect of cluster/particle deposition on atmospheric pressure chemical vapor deposition of SiO2 from four gaseous organic Si-containing precursors and ozone 相关领域化学气相沉积颗粒沉积沉积（地质）粒子（生态学）化学薄膜密切的分析化学（期刊）硅材料科学纳米技术气溶胶有机化学锗生物地质学沉积物古生物学海洋学
网址	https://doi.org/10.1063/1.370331
DOI	10.1063/1.370331 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Toshiyuki Fujimoto; Kikuo Okuyama; Satoshi YAMADA; Motoaki Adachi 出版日期：1999-04-15
求助人	hhh 在 2026-01-07 16:05:48 发布自湖北，悬赏 10 积分
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