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 The SiO2 and SiNx Multilayer Thin Film Deposition for Encapsulation of OLED Using a NSi-01 Single Precursor By Peald 用Peald法沉积NSi-01单一前驱体封装OLED的SiO2和SiNx多层薄膜
相关领域
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材料科学
原子层沉积
薄膜
折射率
聚萘二甲酸乙二醇酯
椭圆偏振法
光电子学
图层（电子）
光学
纳米技术
物理
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期刊：ECS Meeting Abstracts 作者：Sang Ick Lee; Gun Joo Park; Joong-Jin Park; Se‐Jin Jang; Sung Gi Kim; et al 出版日期：2018-07-23 |
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