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  Optimization and Mechanism of SiO2-Based Slurry Components for Atomically Smooth Gallium Nitride Surface Obtained Using Chemical Mechanical Polishing Technique 化学机械抛光技术获得原子级光滑氮化镓表面的SiO2基浆料组分优化及机理
相关领域
材料科学
化学机械平面化
氮化镓
抛光
表面粗糙度
泥浆
光电子学
半导体
表面光洁度
铟镓氮化物
纳米技术
宽禁带半导体
复合材料
图层（电子）
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Wenhao Xian; Baoguo Zhang; Min Liu; Pengfei Wu; Yu Wang; et al 出版日期：2024-01-01 |
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