Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow

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标题	Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow 等离子蚀刻：昨天、今天和明天相关领域蚀刻（微加工）硅等离子体刻蚀等离子体材料科学反应离子刻蚀纳米技术二氧化硅工程物理集成电路干法蚀刻光电子学图层（电子）冶金工程类物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1116/1.4819316
DOI	10.1116/1.4819316 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Vincent M. Donnelly; A. Kornblit 出版日期：2013-09-01
求助人	goudan123 在 2024-04-02 13:53:46 发布自湖北，悬赏 10 积分
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