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 Novel negative photoresist based on polar alicyclic polymers for ArF excimer laser lithography 相关领域
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Shigeyuki Iwasa; Kaichiro Nakano; Katsumi Maeda; Etsuo Hasegawa 出版日期：1998-06-29 |
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