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  Thermal atomic layer deposition of aluminum oxide, nitride, and oxynitride: A mechanistic investigation 氧化铝、氮化物和氧氮化物的热原子层沉积：机理研究
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期刊：AIP Advances 作者：Abu Talha Aqueel Ahmed; Afina Faza Hafiyyan; Nurhidayati Nurhidayati; Fani Rahayu Hidayah Rayanisaputri; Khuloud A. Alibrahim; et al 出版日期：2024-03-01 |
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