Photolithography process optimization: insights into negative tone resists and spray coating

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标题	Photolithography process optimization: insights into negative tone resists and spray coating
网址	https://doi.org/10.1117/12.3051472
DOI	10.1117/12.3051472 doi
其它	期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLII 作者：Johanna Rimböck; Martin Weinhart; Jakob Holzapfel; Armin Schreiner; Matthias Brunnbauer; Madison Reum 出版日期：2025-02-22
求助人	IYY 在 2026-06-03 15:09:28 发布自陕西，悬赏 20 积分
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