Chemical mechanical polishing on cobalt-based barrier through dual functionality of salicylhydroxamic acid between the removal of copper and corrosion inhibition

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标题	Chemical mechanical polishing on cobalt-based barrier through dual functionality of salicylhydroxamic acid between the removal of copper and corrosion inhibition
网址	https://doi.org/10.1016/j.electacta.2025.145689
DOI	10.1016/j.electacta.2025.145689 doi
其它	期刊：Electrochimica Acta 作者：Yingqi Di; Guofeng Pan; Song Lv; Liunan She; Le Zhai; et al 出版日期：2025-01-11
求助人	yesterdayffy 在 2026-08-27 12:42:18 发布自上海，悬赏 10 积分
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