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Characterization and Modeling of Atomic Layer Deposited High-Density Trench Capacitors in Silicon
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DOI
10.1109/tsm.2012.2183903 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
作者:Marion K. Matters-Kammerer; K. B. Jinesh; Theo G. S. M. Rijks; Fred Roozeboom; Johan H. Klootwijk
出版日期:2012-05-01
求助人
热心猕猴桃 在 2026-06-30 14:14:26 发布自河北,悬赏 10 积分
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