Hi-ILT: A Hybrid End-to-End Framework of Lightweight Hierarchical VAE and Physics-Guided ILT for Inverse Lithography Technology

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标题	Hi-ILT: A Hybrid End-to-End Framework of Lightweight Hierarchical VAE and Physics-Guided ILT for Inverse Lithography Technology
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.optlaseng.2026.109621
DOI	10.1016/j.optlaseng.2026.109621 doi
求助人	lll 在 2026-08-25 14:34:52 发布自河南，悬赏 10 积分
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