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Etch Behavior of ALD Al2O3 on HfSiO and HfSiON Stacks in Acidic and Basic Etchants |
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期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Jisook Oh; Jihyun Myoung; Jin Sung Bae; Sangwoo Lim 出版日期:2011-02-23 |
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