Defect Dynamics in Silicon-Doped HfO2-Based Front-End-of-Line FeFETs: Insights From Low-Frequency Noise on Doping Concentration, Interfaces, and Write Cycling

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标题	Defect Dynamics in Silicon-Doped HfO2-Based Front-End-of-Line FeFETs: Insights From Low-Frequency Noise on Doping Concentration, Interfaces, and Write Cycling
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/16/11017705/10994836.pdf...
DOI	10.1109/ted.2025.3564270 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Yannick Raffel; Daniel Hessler; Gautham Kumar; Ricardo Olivo; Luca Pirro; et al 出版日期：2025-05-10
求助人	美满的砖头在 2026-06-21 21:07:44 发布自浙江，悬赏 10 积分
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