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![]() 反应磁控溅射制备(CrMoNbTaZr)NX薄膜的微观结构和性能:化学计量和结晶度的影响
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期刊:Coatings 作者:Xiang Wang; Yanhong Zhang; Xin Zhang; Zhihe Lin; Dongguang Liu; et al 出版日期:2023-08-14 |
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微笑的安容
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