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标题
Optimizing Extreme Ultraviolet Lithography Process Metrics and Aberrations in the Cut Layer Through Source Mask Co-Optimization(SMO)
通过源掩模协同优化(SMO)优化切割层中的极紫外光刻工艺度量和像差
相关领域
极紫外光刻 极端紫外线 平版印刷术 抵抗 过程（计算） 图层（电子） 紫外线 材料科学 光电子学 计算机科学 光刻 下一代光刻 光学 电子束光刻 纳米技术 物理 激光器 操作系统
网址
https://doi.org/10.1109/cstic64481.2025.11017836
DOI
10.1109/cstic64481.2025.11017836 doi
其它 期刊：
作者：Qi Wang; Ying Li; Qiang Wu; Xianhe Liu; Yanli Li
出版日期：2025-03-24
求助人
勤劳怜寒 在 2025-06-08 20:20:00 发布自四川，悬赏 10 积分
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