Surface Finishing of Single-Crystal SiC and GaN Wafers Using a Magnetic Tool in H2O2Solution

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标题	Surface Finishing of Single-Crystal SiC and GaN Wafers Using a Magnetic Tool in H2O2Solution 在H2O2溶液中使用磁性工具对单晶SiC和GaN晶片进行表面精加工相关领域材料科学薄脆饼表面粗糙度抛光平坦度（宇宙学）表面光洁度波纹度复合材料表面完整性化学机械平面化光电子学光学宇宙学量子力学物理
网址	https://www.fujipress.jp/main/wp-content/themes/Fujipress/ph...
DOI	10.20965/ijat.2019.p0230 doi
其它	期刊：International Journal of Automation Technology 作者：Akihisa Kubota; 出版日期：2019-03-04
求助人	Lwxbb 在 2025-06-16 15:20:35 发布自吉林，悬赏 10 积分
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