| 标题 |
 Investigation of anisotropic textured crystalline silicon surface passivation with intrinsic amorphous silicon layers: role of annealing pressure conditions during passivation recovery 具有本征无定形硅层的各向异性纹理晶体硅表面钝性的研究：钝性恢复期间热处理压力条件的作用
相关领域
钝化
退火（玻璃）
材料科学
硅
分析化学（期刊）
托尔
无定形固体
傅里叶变换红外光谱
非晶硅
晶体硅
椭圆偏振法
薄膜
光电子学
结晶学
复合材料
纳米技术
化学
化学工程
热力学
物理
图层（电子）
色谱法
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics 作者：Ashutosh Pandey; Shrestha Bhattacharya; Jagannath Panigrahi; Sourav Mandal; Vamsi K. Komarala 出版日期：2023-07-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
SYLH
彭于彦祖
眼睛大雨筠
YamDaamCaa
yar
pluto
ll
卡卡西
Rondab
smottom
请叫我风吹麦浪
iNk
乖猫要努力
LaTeXer
8R60d8
yznfly
昏睡的蟠桃
wy.he
TMOMOR
cat
皖公网安备34019202002308
