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 Comparison of the ablation behaviour of 266 nm Nd:YAG and 193 nm ArF excimer lasers for LA-ICP-MS analysis 用于LA-ICP-MS分析的266 nm Nd：YAG和193 nm ArF准分子激光烧蚀行为的比较
相关领域
准分子
烧蚀
准分子激光器
激光器
分析化学（期刊）
激光烧蚀
材料科学
化学
光学
色谱法
物理
医学
内科学
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| 其它 |
期刊：Journal of Analytical Atomic Spectrometry 作者：Detlef Günther; Christoph A. Heinrich 出版日期：1999-01-01 |
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