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标题
Predicting the critical features of the chemically-amplified resist profile based on machine learning
基于机器学习的化学放大抗蚀剂轮廓关键特征预测
相关领域
抵抗 平版印刷术 人工神经网络 计算机科学 光学接近校正 人工智能 热点（地质） 均方误差 机器学习 材料科学 纳米技术 统计 数学 光电子学 地球物理学 图层（电子） 地质学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2658664
DOI
10.1117/12.2658664 doi
其它 期刊：
作者：Pengjie Kong; Lisong Dong; Xu Ma; Yayi Wei
出版日期：2023-05-01
求助人
LIU 在 2025-11-19 09:18:15 发布自上海，悬赏 40 积分
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