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标题
Effects of cumulative ion bombardment on ITO films deposited on PET and Si substrates by DC magnetron sputtering
累积离子轰击对直流磁控溅射在PET和Si衬底上沉积ITO薄膜的影响
相关领域
材料科学 溅射 溅射沉积 光电子学 离子 薄膜 纳米技术 化学 有机化学
网址
https://doi.org/10.1364/ome.4.000764
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.1364/ome.4.000764 doi
其它 期刊：Optical Materials Express
作者：Kun-San Tseng; Yu‐Lung Lo
出版日期：2014-03-21
求助人
11 在 2025-12-20 23:51:20 发布自陕西，悬赏 10 积分
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