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  Stochastics in extreme ultraviolet lithography: investigating the role of microscopic resist properties for metal-oxide-based resists 极紫外光刻中的随机性：研究金属氧化物基抗蚀剂微观抗蚀剂性能的作用
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期刊：Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS 作者：Ruben Maas; M.-Claire van Lare; Gijsbert Rispens; Sander F. Wuister 出版日期：2018-07-11 |
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