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[高分] Etude et synthèse de résines positives sensibles aux électrons et aux rayons X utilisées dans les procédés de microlithographie
用于微光刻工艺的正电子和X射线敏感树脂的研究与合成
相关领域
化学
网址
https://doi.org/10.1051/rphysap:0198500200207700
AI链接 archives-ouvertes.fr hal.science archives-ouvertes.fr archives-ouvertes.frdoi.org
DOI
10.1051/rphysap:0198500200207700 doi
其它 期刊：Revue de Physique Appliquée
作者：Brigitte Serre; François Schué; A. Eranian; E. Datamanti; Jean Dubois; et al
出版日期：1985-01-01
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ss 在 2025-10-27 07:54:36 发布自广东，悬赏 50 积分
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