| 标题 |
Electrical performance improvement of charge plasma-based junctionless TFET using novel coalescence of SiGe/GaAs and heterogeneous gate dielectric 利用SiGe/GaAs和异质栅介质的新型聚结改善基于电荷等离子体的无结TFET的电学性能
相关领域
材料科学
隧道场效应晶体管
电介质
跨导
阈下斜率
光电子学
增益-带宽产品
离子
栅极电介质
量子隧道
双极扩散
阈值电压
晶体管
分析化学(期刊)
场效应晶体管
电压
等离子体
化学
电气工程
物理
运算放大器
放大器
色谱法
有机化学
CMOS芯片
工程类
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics A 作者:Kaushal Kumar; Ajay Kumar; S. C. Sharma 出版日期:2022-12-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)